सेमीकंडक्टर या लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले मैन्युफैक्चरिंग के क्षेत्र में हाल के वर्षों में डिवाइस इंटीग्रेशन बढ़ा है । एक बहुत बड़े पैमाने पर एकीकृत सर्किट नामक एक उपकरण के निर्माण में, 1 माइक्रोन या उससे कम के एक ठीक पैटर्न की आवश्यकता है । ऐसी विनिर्माण प्रक्रिया में, बारीक धूल या गैस अशुद्धियों की एक बहुत कम मात्रा में जमा किया जाता है या तारों के पैटर्न पर सोख जाता है, जिसके परिणामस्वरूप सर्किट विफलता होती है। इसलिए, यह आवश्यक है कि उच्च शुद्धता के साथ प्रतिक्रिया गैस और वाहक गैस दोनों, अर्थात, केवल कुछ कण और गैस अशुद्धियां, इन गैसों में मौजूद हो सकते हैं। इस कारण से, एक स्टेनलेस स्टील केशिका ट्यूब या एक सदस्य के लिए उच्च शुद्धता के साथ ऐसी गैस का उपयोग करना आवश्यक है, और इसकी आंतरिक सतह प्रदूषकों को उत्सर्जित करने के लिए प्रदूषक के रूप में उपयोग की जाती है, जिसमें केवल न्यूनतम मात्रा में कण और गैस होती है। नाइट्रोजन और आर्गन जैसी अक्रिय गैसों के अलावा, स्पेशलाइज्ड गैसों नामक कई गैसों का उपयोग अर्धचालक के निर्माण के लिए गैसों के रूप में भी किया जाता है । विशेषता गैसों के उदाहरणों में क्लोरीन, हाइड्रोजन क्लोराइड और हाइड्रोजन ब्रोमाइड जैसी संक्षारक गैसें और रासायनिक रूप से अस्थिर गैसें जैसे सिलेज शामिल हैं । पूर्व में गैस जंग प्रतिरोध की आवश्यकता होती है, जबकि बाद में गैर-उत्प्रेरक प्रदर्शन की आवश्यकता होती है।
अब तक, धूल या पानी के जमाव या अवशोषण को कम करने के लिए, अर्धचालक गैस के निर्माण के लिए उपयोग किए जाने वाले हिस्से की आंतरिक सतह को तब तक चिकना किया गया है जब तक कि इसकी आरमैक्स सतह खुरदरापन 1 माइक्रोन या उससे कम न हो। कोल्ड ड्राइंग, मैकेनिकल पॉलिशिंग, रासायनिक पॉलिशिंग, पॉलिशिंग, या उसके संयोजन का उपयोग आंतरिक सतह या पाइप के कुछ हिस्सों को चौरसाई करने के लिए एक विधि के रूप में किया जा सकता है। हालांकि, 1 माइक्रोन या उससे कम मूल्य के साथ एक अत्यधिक चिकनी सामग्री मुख्य रूप से इलेक्ट्रोलाइटिक पॉलिशिंग द्वारा प्राप्त की जाती है। पाइप या इसी तरह की आंतरिक सतह को चिकना किया जाता है, फिर उच्च शुद्धता वाले पानी से साफ किया जाता है और अंतिम उत्पाद प्राप्त करने के लिए उच्च शुद्धता गैस के साथ सूख जाता है।
वेल्डिंग का प्रयोग आमतौर पर वेल्डिंग करते समय वेल्डिंग का प्रयोग किया जाता है। इसका कारण यह है कि वेल्डिंग उच्च शक्ति और पाइपलाइन की अच्छी हवा जकड़न सुनिश्चित कर सकते हैं । पाइपलाइन बिछाने में, उच्च शुद्धता निष्क्रिय गैस, आमतौर पर आर्गन, एक सुरक्षात्मक गैस के रूप में प्रयोग किया जाता है, और इसकी आंतरिक सतह पाइपलाइन के माध्यम से उच्च शुद्धता गैस के साथ संपर्क किया जाता है ताकि प्रदूषण और ऑक्सीकरण के एक हिस्से को यथासंभव उच्च तापमान तक गर्म करने से बचा जा सके । इसके अलावा पाइप लाइन बिछाने में इन कणों को हटाने के लिए पाइप लाइन को उच्च शुद्धता वाले आर्गन या नाइट्रोजन से साफ किया जाता है और अभी भी पाइप में ही रहता है। जब पाइपलाइन लंबी और जटिल होती है, जैसे पाइपलाइन, तो कई दिनों से कई हफ्तों तक लगता है। हाल ही में सेमीकंडक्टर मैन्युफैक्चरिंग प्लांट के निर्माण में लागत में कमी और प्लांट के जल्द संचालन की पुरजोर मांग की गई है। इन आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए, अब सफाई के समय को छोटा करना आवश्यक है।
उपरोक्त गुणों के अलावा, पाइप और उच्च शुद्धता वाले गैस सदस्यों को वेल्डिंग क्षमताओं, यांत्रिक जवानों के लिए आवश्यक संयुक्त क्षेत्र, और प्रतिरोध पहनने की आवश्यकता होती है; जब जोड़ों जैसे भागों को मशीन किया जाता है, तो मच कमजोरी की आवश्यकता होती है। दूसरी ओर, यह ज्ञात किया गया है कि जंग प्रतिरोध और गैर-उत्प्रेरक गुणों वाली विशेष गैसें, जो सेमीकंडक्टर पाइप या इसी तरह की गैसों के निर्माण के लिए आवश्यक हैं, ऐसे वातावरण में स्टेनलेस स्टील की सतह को गर्म करके सुधारा जा सकता है, ऐसे वातावरण में ऑक्सीजन के आंशिक दबाव को नियंत्रित किया जाता है। यह देखने लायक है कि पाइपलाइन के उद्देश्य पदार्थ को इस साहित्य में एसयूएस 316एल स्टेनलेस स्टील के रूप में सूचित किया गया है।
उपर्युक्त आवश्यक जंग प्रतिरोध और गैर-उत्प्रेरक प्रदर्शन केवल गैस पाइपलाइनों के लिए नहीं हैं। यही मांग सेमीकंडक्टर्स के निर्माण के लिए विभिन्न उपकरणों में इस्तेमाल होने वाले स्टेनलेस स्टील से भी बनी है, जिनमें से एक में फाइन वेफर प्रोसेसिंग है । ऑस्टेनिटिक स्टेनलेस स्टील, विशेष रूप से, SUS 316L प्रकार मुख्य रूप से पाइप और अन्य उपकरण सदस्यों के लिए एक सामग्री के रूप में प्रयोग किया जाता है। जापानी कोकाई पेटेंट प्रकाशन संख्या 161145/1988 साफ कमरे में इस्तेमाल इस्पात पाइप के एक गैर मानक उच्च स्वच्छ ऑस्टेनिटिक स्टेनलेस स्टील का खुलासा । गैर-धातु समावेशन मैगनीज, सिलिकॉन, एल्यूमीनियम और ऑक्सीजन सामग्री की कमी को सीमित करते हैं, जिससे पाइपलाइन की भीतरी सतह से कणों की पीढ़ी कम हो जाता है।
इसके अलावा, जापान पेटेंट प्रकाशन संख्या 198463, 1989/, जो अर्धचालक विनिर्माण के लिए उपकरणों के लिए एक स्टेनलेस स्टील के सदस्य का खुलासा प्रकाशित किया । स्टेनलेस स्टील की इलेक्ट्रोकेमिकल पॉलिशिंग के बाद ये सदस्य गैस ऑक्सीकरण कर रहे हैं। कुछ शर्तों के तहत, 100 से 500 एंगस्ट्रॉम की मोटाई वाली ऑक्साइड परत उस पर बनाई जाती है और इस तरह से गर्म होती है कि बाहरी हिस्से में नी परमाणुओं की संख्या अनुपात है